Deposição química em fase vapor: diferenças entre revisões

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Deposição Química em Fase Vapor'''
 
'''INTRODUÇÃO''''''
 
CVD ou “chemical vapour deposition” (deposição química em fase vapor) é um processo versátil para construção de filmes sólidos, revestimentos, fibras, componentes monolíticos, entre outros materiais. Com a técnica de CVD é possível fazer deposição de metais, elementos não metálicos e ainda grande quantidade compostos como cabonetos, nitretos, óxidos, compostos intermetálicos e muitos outros. Essa tecnologia é fator essencial, por exemplo, para a indústria de semicondutores e outros componentes eletrônicos, em componentes óticos e optoeletrônicos, foto-senssíveis e revestimentos.
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Podemos observar que com o uso das técnicas de CVD é possível construir matérias estruturados em escalas nanométricas com estrutura uniforme e alto grau de pureza. Com o desenvolvimento da técnica vislumbra-se um horizonte muito promissor, além do que temos observado para indústria de materiais semicondutores, essa técnica pode contribuir para o desenvolvimento de matérias nanoestruturados de aplicação tecnológica em outros campos das indústrias de bens de consumo.
 
'''Bibliografia'BIBLIOGRAFIA'''''
 
PIERSON, H.O., Handbook of Chemical Vapor Deposition (CVD) - Principles, Technology and and Applications 2° Ed, 1999, William Andrew Publishing/Noyes
 
JONES A.C., HITCHMAN, M.L. Chemical Vapour Deposition: Precursors, Process and Applications - Capitulo 1 (pg 1-36), 2009, Royal Society of chemistry