Junção PN: diferenças entre revisões

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A maioria dos dispositivos semicondutores usados em [[Componente eletrônico|componentes eletrônicos]] modernos utiliza junções P-N como sua estrutura fundamental.<ref name="Poliakov" />
 
== História ==
[[Ficheiro:John Ambrose Fleming 1890.png|alt=Foto de John Ambrose Fleming|miniaturadaimagem|Foto de John Ambrose Fleming]]
Algumas décadas depois da criação do diodo de [[John Ambrose Fleming]] (1849 - 1945), o Engenheiro [[Russell Ohl|Russell Shoemaker Ohl]] (1898 - 1987), compreendeu que as diferenças causadas nos detectores de [[silício]] deviam-se a impurezas presentes no [[cristal]], a partir disso ele utilizou um forno adequado para purificar mais o [[silício]], seus resultados mostraram semelhanças em testes de retificação. Entretanto, alguns obtiveram resultados opostos, que foram classificados em [[Silício policristalino|dois tipos de silício]]. Diante dessa descoberta, Ohl foi capaz de fabricar bastões com bordas de [[silício]] de diferentes tipos para fabricar o primeiro diodo de junção, e também foi capaz de criar o diodo fotodetector, após perceber que o aparelho era sensível à luz.<ref>{{citar web|url=https://historiadaeletronica.wordpress.com/2017/06/10/historia-do-diodo/|titulo=História da Eletrônica|data=10 de Junho de 2017|acessodata=16 Junho de 2020|publicado=História da Eletrônica|ultimo=Souza|primeiro=André}}</ref>
 
O diodo de junção representou um grande avanço para eletrônica, a [[Junção PN|junção P-N]], e foi fundamental não apenas para o diodo como também para o desenvolvimento de diversos dispositivos eletrônicos.<ref>{{citar livro|título=Electronic Principles, 8th Edition|ultimo=MALVINO|primeiro=Albert|editora=AMGH|ano=2017|local=Porto Alegre|página=|páginas=38-39}}</ref>
== Processos de produção da junção P-N ==
Existem vários processos que garantem a continuidade cristalina entre os lados P e N de uma junção. Os principais são:<ref name="Poliakov" />