Transistor de efeito de campo: diferenças entre revisões

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Correções gerais utilizando AWB
Linha 6:
* MOSFET tipo Intensificação;
* MOSFET tipo Depleção.
[[Ficheiro:Lateral_mosfetLateral mosfet.svg|thumbnail|Corte em seção de um MOSFET tipo-n]]
Os termos depleção e intensificação definem o seu modo básico de operação, enquanto o nome MOSFET designa o transistor Metal Óxido Semicondutor.
== História ==
Os FETs foram inventados por [[Julius Edgar Lilienfeld]] em [[1926]] e por [[Oskar Heil]] em [[1934]].<br />
Em [[1960]] [[John Atalla]] desenvolveu o MOSFET baseado nas teorias de [[William Shockley]] sobre o efeito de campo.<ref>[http://www.electro.patent-invent.com/electricity/inventions/fet.html Patentes]</ref>
== {{LinksLigações externas}} ==
* [http://geocities.yahoo.com.br/componenteseletronicos/index.htm Transistor datasheet]
* [http://www.gta.ufrj.br/grad/01_1/igtb/Pagina_IGBT.htm O IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor)]
== Referências ==
{{reflist}}
 
{{esboço-eletrônica}}
 
[[Categoria:Componentes eletrônicos]]
[[Categoria:Semicondutores]]
[[Categoria:Transistores]]
 
{{esboço-eletrônica}}
 
[[ar:مقحل حقلي]]