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DescriçãoPulverização catódica2.png
Português: Representação esquemática do processo de sputtering. No detalhe: após a colisão do íon do plasma com o alvo pode ocorrer a implantação ou reflexão do íon, ou ainda a transferência de momento para os átomos do alvo, resultando na ejeção destes átomos, que é a definição de sputtering. Retirada de: LEITE, Douglas Marcel Gonçalves (2011). Propriedades Estruturais, Ópticas e Magnéticas de Filmes de GaMnN. Bauru: Universidade Estadual Paulista "Júlio de Mesquita Filho". 128 páginas.
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